<h3>近日，臺積電對外宣布，將在2019年第二季度進行5nm制程風險試產(chǎn)，預計2020年量產(chǎn)。與此同時，中微半導體也向“上觀新聞”透露了一個重磅消息，其自主研發(fā)的5nm等離子體刻蝕機經(jīng)臺積電驗證，性能優(yōu)良，將用于全球首條5nm制程生產(chǎn)線。</h3> <h3>值得一提的是，中微半導體也是唯一進入臺積電7nm制程蝕刻設(shè)備的大陸本土設(shè)備商。據(jù)悉，中微半導體與臺積電在28nm制程時便已開始合作，并一直延續(xù)到10nm和7nm制程。</h3> <h3>而中微半導體如此亮眼成績的背后，離不開尹志堯和他團隊的多年努力。</h3><h3>他放棄國外百萬年薪工作，只為一顆“中國芯”</h3> <h3>研究顯示，2015-2020年中國半導體芯片產(chǎn)業(yè)投資額將達到650億美元，其中芯片制造設(shè)備投資額就將達到500億美元。但是中國芯片制造設(shè)備的95%都是依賴于進口，也就是說需要花480億到國外購買設(shè)備。這也使得中國芯片制造設(shè)備的國產(chǎn)化成為了一件非常迫切的事情。</h3> <h3>在美國硅谷從事半導體行業(yè)20多年的尹志堯，其在世界最大的半導體設(shè)備企業(yè)——美國應用材料公司擔任總公司副總裁，曾被譽為“硅谷最有成就的華人之一”，參與了美國幾代等離子體刻蝕機的研發(fā)，擁有60多項技術(shù)專利。</h3> <h3>2004年，當時已經(jīng)60歲的尹志堯放棄了美國的百萬年薪，帶領(lǐng)三十多人的團隊，沖破美國政府的層層審查（所有人都承諾不把美國的技術(shù)帶回中國，包括所有工藝配方、設(shè)計圖紙，一切從零開始），回國創(chuàng)辦了中微半導體，他要在芯片制造設(shè)備領(lǐng)域與國際巨頭直接競爭，取得一席之地。</h3> <h3>成功打破國外壟斷</h3><h3>等離子體刻蝕機是芯片制造環(huán)節(jié)的一種關(guān)鍵設(shè)備，其是在芯片上進行微觀雕刻，刻出又細又深的接觸孔或者線條，每個線條和深孔的加工精度是頭發(fā)絲直徑的幾千分之一到上萬分之一。這對刻蝕機的控制精度要求非常高。</h3> <h3>據(jù)介紹，一個16nm的微觀邏輯器件有60多層微觀結(jié)構(gòu)，要經(jīng)過1000多個工藝步驟，要攻克上萬個技術(shù)細節(jié)才能加工出來。只看等離子體刻蝕這個關(guān)鍵步驟，它的加工尺度為普通人頭發(fā)絲的五千分之一，加工的精度和重復性要達到五萬分之一。足見難度之高。</h3> <h3>長期以來，蝕刻機的核心技術(shù)一直被國外廠商所壟斷。2004年尹志堯回國創(chuàng)辦中微半導體之初就將目光鎖定在了刻蝕機領(lǐng)域。</h3> <h3>中微半導體在剛剛涉足IC芯片介質(zhì)刻蝕設(shè)備時，就推出了65nm等離子介質(zhì)刻蝕機產(chǎn)品，隨著技術(shù)的進步一直做到45nm、32nm、28nm、16nm、10nm，現(xiàn)在7nm的刻蝕機產(chǎn)品已經(jīng)在客戶的生產(chǎn)線上運行了，5nm刻蝕機也即將被臺積電采用。</h3><h3>“在米粒上刻字的微雕技藝上，一般能刻200個字已經(jīng)是極限，而我們的等離子刻蝕機在芯片上的加工工藝，相當于可以在米粒上刻10億個字的水平?！敝形雽wCEO尹志堯曾這樣形容到。</h3> <h3>經(jīng)過多年的努力，中微半導體用實力打破了這一領(lǐng)域技術(shù)封鎖，成功讓中國正式躋身刻蝕機國際第一梯隊。</h3> <h3>中微半導體首席專家、副總裁倪圖強博士表示，刻蝕機曾是一些發(fā)達國家的出口管制產(chǎn)品，但近年來，這種高端裝備在出口管制名單上消失了。這說明如果我們突破了“卡脖子”技術(shù)，出口限制就會不復存在。如今，中微與泛林、應用材料、東京電子、日立4家美日企業(yè)一起，組成了國際第一梯隊，為7nm芯片生產(chǎn)線供應刻蝕機。</h3> <h3>芯智訊注：美國商務部在2015年宣布，由于在中國已有一個非美國的設(shè)備公司做出了和美國設(shè)備公司有相同質(zhì)量和相當數(shù)量的等離子體刻蝕機，所以取消了對中國的刻蝕機的出口管制。</h3><h3>他還表示，明年臺積電將率先進入5nm制程，已通過驗證的國產(chǎn)5nm刻蝕機，預計會獲得比7nm生產(chǎn)線更大的市場份額。</h3> <h3>值得一提的是，2016年，中微半導體獲得國家集成電路產(chǎn)業(yè)基金(大基金)4.8 億元的投資，成功成為中國芯片制造領(lǐng)域的國家隊。而這也凸顯了國家對于中微半導體在中國半導體設(shè)備領(lǐng)域的貢獻和地位的認可。</h3> <h3>面對國外競爭對手挑釁，屢戰(zhàn)屢勝</h3><h3>或許正是由于中微半導體在半導體設(shè)備領(lǐng)域的突飛猛進，也引來了國外競爭對手挑起的知識產(chǎn)權(quán)訴訟。</h3> <h3>首先發(fā)難的是尹志堯的老東家——美國應用材料公司，2007年之時，美國應用材料公司就起訴中微半導體侵權(quán)，但卻始終舉證無力（尹志堯及其團隊成員在離開美國時并未帶走任何工藝配方、設(shè)計圖紙，后續(xù)的產(chǎn)品設(shè)計也避開了對方的專利），中微半導體則抓住機會適時反訴對方不正當競爭，應用材料公司顯然對這一情況準備不足，最終不得不撤訴求和。</h3> <h3>2009年，另一巨頭美國科林研發(fā)又在臺灣起訴中微侵犯其發(fā)明專利，中微半導體則積極應對，提供其專利無效的證據(jù)，在法院的兩次審判中科林的相關(guān)專利均被判決無效，第三次臺灣“智慧財產(chǎn)局”甚至審定撤銷了科林的其中一項專利權(quán)，緊接著科林又對“智慧財產(chǎn)局”的審定提出行政訴訟，再次遭到駁回。</h3> <h3>2016年，中微半導體在接受媒體采訪時，也詳細介紹了其應對美國行業(yè)巨頭5年侵犯商業(yè)秘密和專利權(quán)纏訴，終獲“一撤訴四連勝”的成功經(jīng)歷。</h3> <h3>當時，中微半導體公司資深知識產(chǎn)權(quán)總監(jiān)姜銀鑫就表示，“中微在知識產(chǎn)權(quán)方相當謹慎，于公司建立初期便成立了專門的知識產(chǎn)權(quán)團隊，未雨綢繆，針對潛在的知識產(chǎn)權(quán)糾紛可能性做了大量的分析排查。在部分海歸研發(fā)團隊核心成員回國加入之前，中微便已經(jīng)讓他們簽訂了不從原單位帶來技術(shù)機密的承諾書”。</h3><h3>2017年11月初，美國MOCVD（金屬有機化合物氣相沉積設(shè)備）設(shè)備廠Veeco宣布，美國紐約東區(qū)地方法院同意了其針對SGL Carbon，LLC（SGL）的一項初步禁令請求，禁止SGL出售采用Veeco專利技術(shù)的MOCVD使用的晶圓承載器（即石墨盤），包括專為中國MOCVD設(shè)備商中微半導體設(shè)計的石墨盤。Veeco此舉針對的正是中微半導體。</h3> <h3>對此，中微半導體一方面積極發(fā)展第二和第三渠道的供應商；另一方面則在中國對Veeco提起專利侵權(quán)訴訟。</h3> <h3>發(fā)展國產(chǎn)芯片一直是14億中華兒女的共同夢想，芯片被譽為現(xiàn)代工業(yè)的心臟，各行各業(yè)都在應用著它。然而，發(fā)展國產(chǎn)芯片比“唐僧西天取經(jīng)”都要艱難，歐美日韓等半導體廠商企圖遏制中國企業(yè)發(fā)展。偉大的背后是苦難，雖然我們國產(chǎn)芯片產(chǎn)業(yè)比歐美發(fā)達國家晚了幾十年，但在最近幾年，我國在很多核心技術(shù)都實現(xiàn)了突破，中國科研人員闖過這四道技術(shù)難關(guān)，國產(chǎn)光刻機有望打敗荷蘭ASML。</h3> <h3>我們知道，光刻機是芯片制造的關(guān)鍵設(shè)備，臺積電、三星、英特爾這三家公司能夠稱霸全球芯片市場，很大程度上依賴高端光刻機這個“特種設(shè)備”，他們?nèi)疫€是ASML公司的大股東，擁有產(chǎn)品優(yōu)先使用權(quán)。如果我們在國產(chǎn)光刻機這個領(lǐng)域挫敗了ASML，超越臺積電、三星、英特爾就只剩下時間問題了。</h3> <h3>目前，我們已經(jīng)連續(xù)攻克了芯片光刻機四道技術(shù)封鎖線，跟ASML的技術(shù)差距在快速縮小。</h3> <h3>第一道難關(guān)是光學曝光系統(tǒng)。光刻機，顧名思義，是要應用到精密的光學技術(shù)，它由于數(shù)十塊非常小的鏡片串聯(lián)而成，精度在10納米以下，ASML所使用的7nm芯片光刻機就是采用德國蔡司獨家生存的鏡頭。眾所周知，日本相機產(chǎn)業(yè)非常發(fā)達，根源就在于日本把光學技術(shù)研究透了。如今，我國的長春光機所和國防科技大學組成聯(lián)合攻關(guān)團隊，全面掌握了更高水平的光刻機光學曝光系統(tǒng)，精度達到國際中端水平。</h3> <h3>第二道難關(guān)是光刻機激光光源。為什么我們國產(chǎn)光刻機長期以來不能達到高端水平的原因之一就在于光源技術(shù)，它的研制技術(shù)難度極大，全世界只有日本一家公司可以獨立生產(chǎn)光源，其余的都被ASML收購了。面對這座芯片領(lǐng)域的“珠峰”，我國科研人員用了9年時間，終于掌握了這項技術(shù)。</h3> <h3>第三道難關(guān)是光刻機工作臺。光刻機是一個很笨重的特種設(shè)備，里面的復雜程度難以想象，日本光刻機廠商就放出狠話：就算你們中國人能夠掌握光學技術(shù)，但雙工件臺就恐怕拿不下了。然而事實卻狠狠地打臉了那些外國廠商，清華大學牽頭眾多科研機構(gòu)，已經(jīng)造出來了。成為全球第二個掌握這個核心技術(shù)的國家。</h3> <h3>第四道關(guān)是光刻機浸液系統(tǒng)。這是芯片制成的關(guān)鍵，我國的浙江大學已經(jīng)制作出這個樣機，我國已經(jīng)超越了尼康和佳能，我國成為全球第二大光刻機制造大國。</h3> <h3>可以說，在光刻機領(lǐng)域，國產(chǎn)芯片光刻機的對手只剩下荷蘭ASML公司一家。</h3> <h3>拜讀才友老師又一喜訊傳來的好消息。5nm蝕刻應該是目前全球最頂尖蝕刻技術(shù)的極限值，能在這一芯片重要技術(shù)環(huán)節(jié)達到頂峰是一個振奮人心的好消息，向著國人全自主生產(chǎn)高端核心芯片的方向邁出了一大步。就像當年干“兩彈一星”那樣，“有志者事竟成”?！昂鋈缫灰勾猴L來，千樹萬樹梨花開”，她像春天的繁花，在紛飛中落在歲月的眉間。輕輕觸摸，都是著一種欣喜，在幾經(jīng)風雨之后，磨礪今天的成就。向默默無聞奉獻在頂尖科技的專家致以崇高的敬禮！????????????</h3><h3>作者心似流云</h3><h3>多謝才友心似流云精彩點評！????????????</h3>
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